一,、產(chǎn)品簡介：

 我所以優(yōu)質(zhì)紅外發(fā)熱管為加熱元件,采用紅外線鏡面反射技術(shù),，成功研制出快速紅外輻射鍍金聚焦爐。該加熱裝置解決了傳統(tǒng)電爐升降溫速度慢,、使用效率低等難點,，控制部分采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制,，爐體為雙層爐殼,，采用水冷系統(tǒng)/風冷系統(tǒng)，延長加熱元件壽命,。

拋物線聚焦圖例             橢圓聚焦圖例

二,、技術(shù)參數(shù)：

1、最高溫度：1700℃,，長期使用溫度：1600℃（注：理論最高溫度和實際最高溫度取決于試樣材料,。）
    2、最高區(qū)間升溫速率：>280℃/s,；  
    3,、電壓功率：220（380）V；6-36kw,；
    4,、加熱方式：紅外輻射加熱,；
    5、加熱區(qū)間：點,、線（柱狀）,、面加熱；
    6,、反射面冷卻方式：水冷,；
    7、控溫精度：±1℃,；
    8、溫度顯示精度：0.1℃,；
    9,、控制方式：配備智能溫控儀表，可控硅控制,，可實現(xiàn)30段程序控溫,。

三、主要功能和特點：

1,、可擴展在真空/不同氣氛/不同環(huán)境下,，對不同產(chǎn)品、樣品進行快速熱處理,；

2,、溫控精度高；

3,、適合高校,、科研院所、企業(yè)實驗室使用,；

4,、操作方便，試樣裝取容易,；

5,、價格合理，性價比高,。

四,、主要用途：

1、電子材料

（1）硅（Si）和化合物半導體的實時分析器（RTA）,；

（2）薄膜成型的熱源,；

（3）離子注入后的激活器；

（4）硅化物成型的熱源,。

2,、陶瓷材料/無機材料

（1）陶瓷基片層壓板的退火爐,；

（2）玻璃基片的退火爐；

（3）陶瓷拉伸,、彎曲試驗的退火爐,；

（4）超導陶瓷的退火爐；

（5）陶瓷加熱,、循環(huán)加熱試驗的退火爐,。

3、鋼制材料/金屬材料

（1）薄鋼板加熱過程分析爐,；

（2）焊接分析爐,；

（3）高溫（1000℃以下）真空加熱試驗爐；

（4）大氣條件熔化過程分析爐,；

（5）高壓下,，難熔鋼和鋁循環(huán)加熱試驗爐；

4,、復(fù)合材料

（1）絕熱性評估測試用爐,；

（2）無機化合物循環(huán)加熱試驗爐。

5,、其他

（1）高溫條件下,，拉伸、壓縮試驗用爐,；

（2）分段控制爐,；

（3）溫度梯度爐；

（4）析出氣體分析爐,。